洛杉磯磨耗試驗機使用說明

1.使用設(shè)備時，其輸入信號或外接負載應(yīng)限制在規(guī)定范圍之內(nèi)，禁止超載運行。

2.光學化學儀器及其配件，使用時要輕拿輕放，防止震動。切勿用手觸摸光學玻璃表面。發(fā)現(xiàn)灰塵及臟物時，不得用手或抹布擦試，必須使用品或工具清除。

3.設(shè)備不宜在磁場或電場中操作使用，必須采取屏蔽措施，防止儀器設(shè)備損壞或降低測量精度。

4.機械類儀器設(shè)備，使用前必須進行空載運轉(zhuǎn)確保*后方可加載使用。用前潤滑，用后擦試干凈。

5.儀器設(shè)備不準隨意拆改或解體使用，確因需要開發(fā)新功能或改造更新等，需按分級管理權(quán)限，履行審批手續(xù)后再實施。

6.經(jīng)常進行  設(shè)備的保養(yǎng)與維護，并存放在干燥通風之處，待用時間過長儀器設(shè)備，應(yīng)定期通電開機，防止潮霉損壞儀器設(shè)備其零部件。

7.建立大型精度、貴重  設(shè)備技術(shù)指標定期校驗和標定制度，保持應(yīng)有的技術(shù)指標。做好使用原始記錄。